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ストレスが美容の大敵であることは、これまで多くの研究からわかってきていますが、ストレスの感じ方の個人差を生み出す要因については未だ明らかになっていません。今回メナードは、「ストレス」と「遺伝情報」および「肌の状態」の関係に着目し、研究を行いました。1200人の日本人女性の唾液サンプルからDNAを抽出し、DNA解析を行うと同時に「日頃のストレス」と「現在の肌状態」および「顔のシワ、タルミの状態」に関して調査しました。その結果、「日頃のストレス」と関連性が高いSNPとして『rs74548608』を発見しました。また、日頃ストレスを強く感じている人ほど、肌状態や顔のシワ、タルミの状態が悪い傾向も明らかになりました。
今回の研究成果は、ストレスに対する自身の遺伝的な傾向を推測する技術の開発や、ストレス予防に着目した新しい美容提案方法などへの応用が期待されます。
なお、本研究成果は、国際科学誌「Skin Health and Disease」オンライン版に掲載されました。
※1 SNP:Single Nucleotide Polymorphism、一塩基多型。DNA配列の個人差のうち、一つの塩基のみが人によって異なっている部分。
<参考資料>
1. 「ストレスの感じやすさ」に関わるDNAの特徴(SNP)の探索
メナードは、これまでに多くの日本人女性のDNA解析から、「シミのできやすさ」や「肌あれのしやすさ」など肌質に関わるSNPや、将来のシワやタルミに関わるSNPを見出してきました。※2、※3
今回メナードでは、1200人の日本人女性(平均年齢49.0歳)の唾液サンプルよりDNAを抽出し、DNA解析を行うと同時に、同被験者に対して「日頃のストレス」についてアンケートを行いました。
得られたデータの関連解析を行うことにより、「ストレスの感じやすさ」に関連するSNPについて探索しました。その結果、「ストレスの感じやすさ」と関連性が高いSNPとして『rs74548608』を発見しました。日本人では、rs74548608にはGGタイプ、GCタイプ、CCタイプがありますが、GGタイプ<GCタイプ<CCタイプの順でストレスを強く感じる傾向がありました。また、日本人において約45%がストレスを感じやすいCCタイプであることが分かりました。次いで、GCタイプが47%、ストレスを最も感じにくいGGタイプの人は8%でした。このことから、日本人の半分近くがストレスを感じやすい体質であると考えられました。
※2 2019年11月6日リリース(https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000004.000048666.html)
※3 2021年7月27日リリース(https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000029.000048666.html)
2. 「日頃のストレス」と「現在の肌状態」との関連
1. で行った「日頃のストレス」に関するアンケートと同時に「現在の肌状態」に関する質問を行ったところ、日頃ストレスを感じている人ほど、肌状態が悪くなる傾向が見られました。
3. 「日頃のストレス」と「シワ、タルミの状態」との関連
各被験者に現在の自身の顔の「シワ、タルミの状態」を下記のパネルの中から選択してもらいました。そして、「日頃のストレス」が、被験者のシワやタルミの状態に及ぼす影響について調べました。その結果、日頃ストレスを強く感じている人ほど、特に眉間のシワ(p※4 = 0.00578)、目尻のシワ(p = 0.0379)、ほうれい線(p = 0.0485)、口角のシワ(p = 0.0496)の状態が悪い傾向があることが明らかになりました。
※4 p値:有意差の判定基準に用いられる数値。一般的には0.05未満であれば統計的に有意とする。
4. SNPについて
DNAは、アデニン(A)、チミン(T)、シトシン(C)、グアニン(G)という4種類の塩基が並んでできています。この塩基の特定の並び方が遺伝情報となります。ヒトの遺伝情報は約30億個のDNAの塩基配列で構成されており、この塩基配列には個人間で差があります。特に一つの塩基配列のみが人によって異なっている部分をSNP(Single Nucleotide Polymorphism、一塩基多型)と呼びます(図4)。ヒトのゲノムの中には約1000万箇所のSNPがあると推定されており、その塩基配列の違いが体質や病気のかかりやすさなどの個人差に関わると考えられています。SNPには、一つひとつにrs番号という世界共通のIDが割り振られています。
5. 掲載雑誌・タイトル・著者について
雑誌名: Skin Health and Disease
論文タイトル: Analysis of the effect of daily stress on the skin and search for genetic loci involved in the perceived stress of an individual
掲載アドレス: https://doi.org/10.1002/ski2.110
著者: 井上 悠1, 2, 長谷部 祐一1, 2, 五十嵐 敏夫1, 堀田 美佳1, 2, 奥野 凌輔 1, 2,
山田貴亮1, 長谷川 靖司1, 2
所属: 1 日本メナード化粧品株式会社 総合研究所
2 名古屋大学大学院 医学系研究科 名古屋大学メナード協同研究講座
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